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1closedAccessaccesoRestringido.pdf.jpg1993TMAH/IPA anisotropic etching characteristicsMerlos Domingo, Ángel CSIC ORCID ; Acero Leal, María Cruz CSIC ORCID ; Bao, Min-Hang; Bausells, Joan CSIC ORCID ; Esteve i Tintó, Jaumeartículo
2openAccessSensActB_57_1999_p56-62.pdf.jpg1999Ion-sensitive field-effect transistors fabricated in a commercial CMOS technologyBausells, Joan CSIC ORCID ; Carrabina, J.; Errachid, Abdelhamid; Merlos Domingo, Ángel CSIC ORCID artículo
3closedAccessaccesoRestringido.pdf.jpgjun-1995Application of nickel electroless plating to the fabrication of low-cost backside contact ISFETsMerlos Domingo, Ángel CSIC ORCID ; Esteve i Tintó, Jaume; Acero Leal, María Cruz CSIC ORCID ; Cané Ballart, Carles; Bausells, Joan CSIC ORCID artículo
4closedAccessaccesoRestringido.pdf.jpgdic-1994Anisotropic etch-stop properties of nitrogen-implanted siliconAcero Leal, María Cruz CSIC ORCID ; Esteve i Tintó, Jaume; Montserrat Martí, Josep CSIC ORCID ; Bausells, Joan CSIC ORCID ; Pérez Rodríguez, Alejandro; Romano-Rodríguez, Alberto; Morante, Joan Ramón CSIC ORCIDartículo
5closedAccessaccesoRestringido.pdf.jpg26-sep-1993Anisotropic etch-stop properties of nitrogen implanted siliconAcero Leal, María Cruz CSIC ORCID ; Esteve i Tintó, Jaume; Montserrat Martí, Josep CSIC ORCID ; Bausells, Joan CSIC ORCID ; Romano-Rodríguez, Alberto; Pérez Rodríguez, Alejandro; Morante, Joan Ramón CSIC ORCIDpóster de congreso
6closedAccessaccesoRestringido.pdf.jpg1-jun-1992A study of the undercutting characteristics in the TMAH:IPA systemMerlos Domingo, Ángel CSIC ORCID ; Acero Leal, María Cruz CSIC ORCID ; Bao, Min-Hang; Bausells, Joan CSIC ORCID ; Esteve i Tintó, Jaumepóster de congreso

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