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http://hdl.handle.net/10261/258187COMPARTIR / EXPORTAR:
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| Título: | Electrical characterization of defects created by ¿-radiation in HfO2-based MIS structures |
Autor: | García, Héctor; Castán, H.; Dueñas, S.; González, M. B.; Campabadal, Francesca CSIC ORCID ; Acero Leal, María Cruz CSIC ORCID ; Sambuco Salomone, L.; Faigón, A. | Fecha de publicación: | oct-2017 | Citación: | 17th Conference on Defents-Recognition, Imaging and Physics in Semiconductors (2017) | Descripción: | Resumen del trabajo presentado en el 17th Conference on Defents-Recognition, Imaging and Physics in Semiconductors (DRIPS) , celebrado en Valladolid (España), del 9 al 12 de octubre de 2017 | URI: | http://hdl.handle.net/10261/258187 |
| Aparece en las colecciones: | (IMB-CNM) Comunicaciones congresos |
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| Fichero | Descripción | Tamaño | Formato | |
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| Electrical characterization of defects created.pdf | 726,92 kB | Unknown | Visualizar/Abrir |
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