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Derechos	Preview	Fecha Public.	Título	Autor(es)	Tipo
closedAccess		2001	Nanoalignment mask fabricated directly on Si by AFM	Huang, W.; Dang, X.; Hu, Q.; Tello Ruiz, Marta CSIC; Calleja, Montserrat CSIC ORCID ; García García, Ricardo CSIC ORCID; Gómez-Rodríguez, J. M.; Baró, A. M. CSIC	artículo

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