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1openAccessWO0172104A1.pdf.jpg4-oct-2001Method for the production of silicon carbide (SIC) layers by means of ionic implantion of carbon and anneals.Pérez Rodríguez, Alejandro; Serre, Christophe; Romano-Rodríguez, Alberto; Morante, Joan Ramón CSIC ORCID; Esteve i Tintó, Jaume; Acero Leal, María Cruz CSIC ORCID patente
2closedAccessaccesoRestringido.pdf.jpgjun-1997Synthesis of SiC microstructures in Si technology by high dose carbon implantation: Etch-stop propertiesSerre, Christophe; Pérez Rodríguez, Alejandro; Romano-Rodríguez, Alberto; Calvo Barrío, L.; Morante, Joan Ramón CSIC ORCID; Esteve i Tintó, Jaume; Acero Leal, María Cruz CSIC ORCID ; Skorupa, Wolfgang; Kögler, Reinhardartículo
3closedAccessaccesoRestringido.pdf.jpgene-2001Structural and electrical characterization of ion beam synthesized and n-doped SiC layersSerre, Christophe; Panknin, D.; Pérez Rodríguez, Alejandro; Romano-Rodríguez, Alberto; Morante, Joan Ramón CSIC ORCID; Kögler, Reinhard; Skorupa, Wolfgang; Esteve i Tintó, Jaume; Acero Leal, María Cruz CSIC ORCID artículo
4closedAccessaccesoRestringido.pdf.jpg1999Test microstructures for measurement of SiC thin film mechanical propertiesSerre, Christophe; Pérez Rodríguez, Alejandro; Romano-Rodríguez, Alberto; Morante, Joan Ramón CSIC ORCID; Esteve i Tintó, Jaume; Acero Leal, María Cruz CSIC ORCID artículo
5closedAccessaccesoRestringido.pdf.jpg12-dic-2001Ion beam synthesis of n-type doped SiC layersSerre, Christophe; Panknin, D.; Pérez Rodríguez, Alejandro; Romano-Rodríguez, Alberto; Morante, Joan Ramón CSIC ORCID; Kögler, Reinhard; Skorupa, Wolfgang; Esteve i Tintó, Jaume; Acero Leal, María Cruz CSIC ORCID artículo
6closedAccessaccesoRestringido.pdf.jpg16-jun-1998beta-SiC on SiO2 formed by ion implantation and bonding for micromechanics applicationsSerre, Christophe; Romano-Rodríguez, Alberto; Pérez Rodríguez, Alejandro; Morante, Joan Ramón CSIC ORCID; Fonseca, Luis; Plaza, José Antonio CSIC ORCID ; Acero Leal, María Cruz CSIC ORCID comunicación de congreso
7closedAccessaccesoRestringido.pdf.jpg1996Etch-stop behavior of buried layers formed by substoichiometric nitrogen ion implantation into siliconPérez Rodríguez, Alejandro; Romano-Rodríguez, Alberto; Morante, Joan Ramón CSIC ORCID; Acero Leal, María Cruz CSIC ORCID ; Esteve i Tintó, Jaume; Montserrat Martí, Josep CSIC ORCID ; El‐Hassani, A.artículo
8closedAccessaccesoRestringido.pdf.jpg5-jun-2001Ion Beam synthesis of n-type doped SiC layersSerre, Christophe; Panknin, D.; Pérez Rodríguez, Alejandro; Romano-Rodríguez, Alberto; Morante, Joan Ramón CSIC ORCID; Kögler, Reinhard; Skorupa, Wolfgang; Esteve i Tintó, Jaume; Acero Leal, María Cruz CSIC ORCID comunicación de congreso
9closedAccessaccesoRestringido.pdf.jpg1993Analysis of buried etch-stop layers in silicon by nitrogen-ion implantationAcero Leal, María Cruz CSIC ORCID ; Pérez Rodríguez, Alejandro; Esteve i Tintó, Jaume; Montserrat Martí, Josep CSIC ORCID ; Garrido, Blas; Romano-Rodríguez, Alberto; Morante, Joan Ramón CSIC ORCIDartículo
10closedAccessaccesoRestringido.pdf.jpg1995Synthesis of thin membranes in Si Technology by carbon ion implantationSerre, Christophe; Pérez Rodríguez, Alejandro; Calvo Barrío, L.; Romano-Rodríguez, Alberto; Morante, Joan Ramón CSIC ORCID; Esteve i Tintó, Jaume; Acero Leal, María Cruz CSIC ORCID ; Skorupa, Wolfgang; Kögler, Reinhardcomunicación de congreso