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Título

Introducing the concept of pulsed vapor phase copper-free surface click-chemistry using the ALD technique

AutorSaric, Iva; Peter, Robert; Kolympadi, M.; Jelovica Badovinac, Ivana; Rogero, Celia CSIC ORCID; Ilyn, Max CSIC ORCID; Knez, Mato; Ambrožić, Gabriela
Fecha de publicación13-feb-2019
EditorRoyal Society of Chemistry (UK)
CitaciónChemical Communications 55(21): 3109-3112 (2019)
ResumenWe report for the first time on a pulsed vapor phase copper-free azide-alkyne click reaction on ZnO by using the atomic layer deposition (ALD) process technology. This reproducible and fast method is based on an in situ two-step reaction consisting of sequential exposures of ZnO to propiolic acid and benzyl azide.
Versión del editorhttp://dx.doi.org/10.1039/c9cc00367c
URIhttp://hdl.handle.net/10261/203868
DOI10.1039/c9cc00367c
Identificadoresdoi: 10.1039/c9cc00367c
e-issn: 1364-548X
issn: 1359-7345
Aparece en las colecciones: (CFM) Artículos




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