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dc.contributor.authorEsteve i Tintó, Jaume-
dc.contributor.authorAcero Leal, María Cruz-
dc.contributor.authorMerlos Domingo, Ángel-
dc.contributor.authorBrausells Roige, Joan-
dc.contributor.authorBao, Min-Hang-
dc.date.accessioned2008-08-17T23:44:06Z-
dc.date.available2008-08-17T23:44:06Z-
dc.date.issued1995-11-16-
dc.identifier.citationPublication nr.: ES 2068740 B1en_US
dc.identifier.otherES 2068740 B1-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10261/6730-
dc.descriptionReferencia OEPM: P9300156.-- Fecha de solicitud: 28/01/1993.-- Titular: Consejo Superior de Investigaciones Científicas (CSIC).en_US
dc.description.abstractComposiciones en solución para el ataque de obleas de silicio y método para el ataque con tales composiciones (ver figura en archivo de texto adjunto). Composiciones basadas en el uso del hidróxido de tetrametil amonio, producto no tóxico compatible con el proceso CMOS a las que se añade isopropanol, y método que se utiliza para obtener estructuras micromecánicas de silicio. La adición de 2-propanol al hidróxido de tetrametil amonio permite reducir y controlar el valor del sobreataque del sistema de grabado en función de la concentración de hidróxido de tetrametil amonio, de la concentración de 2-propanol añadido y de la temperatura a la que se realiza el grabado.en_US
dc.format.extent245370 bytes-
dc.format.mimetypeapplication/pdf-
dc.language.isospaen_US
dc.rightsopenAccessen_US
dc.titleComposiciones en solución para el ataque de obleas de silicio y método para el ataque con tales composicionesen_US
dc.typePatenteen_US
dc.description.peerreviewedPeer revieweden_US
Appears in Collections:(IMB-CNM) Patentes
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