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Composiciones en solución para el ataque de obleas de silicio y método para el ataque con tales composiciones

AutorEsteve i Tintó, Jaume; Acero Leal, María Cruz; Merlos Domingo, Ángel; Brausells Roige, Joan; Bao, Min-Hang
Fecha de publicación16-nov-1995
CitaciónPublication nr.: ES 2068740 B1
ResumenComposiciones en solución para el ataque de obleas de silicio y método para el ataque con tales composiciones (ver figura en archivo de texto adjunto). Composiciones basadas en el uso del hidróxido de tetrametil amonio, producto no tóxico compatible con el proceso CMOS a las que se añade isopropanol, y método que se utiliza para obtener estructuras micromecánicas de silicio. La adición de 2-propanol al hidróxido de tetrametil amonio permite reducir y controlar el valor del sobreataque del sistema de grabado en función de la concentración de hidróxido de tetrametil amonio, de la concentración de 2-propanol añadido y de la temperatura a la que se realiza el grabado.
DescripciónReferencia OEPM: P9300156.-- Fecha de solicitud: 28/01/1993.-- Titular: Consejo Superior de Investigaciones Científicas (CSIC).
URIhttp://hdl.handle.net/10261/6730
ReferenciasES 2068740 B1
Aparece en las colecciones: (IMB-CNM) Patentes
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