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Título

CVD of covalent compounds and high- Tc superconductors

AutorGómez-Aleixandre, C. ; Sánchez, Olga ; Albella, J. M. ; Santiso, José ; Figueras, Albert
Fecha de publicación1995
EditorWiley-VCH
CitaciónAdvanced Materials 7 (2): 111-119 (1995)
ResumenChemical vapor deposition at high temperatures provided the deposited atoms with the necessary surface mobility to ensure crystallinity and epitaxial growth. The use of high-temperature CVD in the deposition of high-T-c superconducting ceramics and covalent materials such as diamond (see Figure) and boron nitride is reviewed, and, for example, the methods used to maintain the tetrahedral arrangement of neighboring atoms during deposition discussed.
URIhttp://hdl.handle.net/10261/61753
DOInull
Identificadoresdoi: null
issn: 0935-9648
Aparece en las colecciones: (ICMM) Artículos
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