English   español  
Por favor, use este identificador para citar o enlazar a este item: http://hdl.handle.net/10261/4910
Compartir / Impacto:
Estadísticas
Add this article to your Mendeley library MendeleyBASE
Ver citas en Google académico
Visualizar otros formatos: MARC | Dublin Core | RDF | ORE | MODS | METS | DIDL
Exportar otros formatos: Exportar EndNote (RIS)Exportar EndNote (RIS)Exportar EndNote (RIS)
Título : Procedimiento de fotoenmascaramiento de poliimidas fotosensibles con compuestos organometálicos para procesos fotolitográficos en tecnología de silicio
Autor : Muñoz Pascual, Francisco Javier; Domínguez, Carlos
Palabras clave : Fotoenmascaramiento
Polimidas fotosensibles
Compuestos organometálicos
Fecha de publicación : 16-mar-2001
Citación : Publication nr.: ES 2146128 B1
Resumen: Es un proceso fotolitográfico monocapa sobre topografías irregulares que se basa en la silanización superficial de los grupos metacrilato del ácido poliámico precursor de la poliimida fotosensible para que actúen como máscara ante el revelado por plasma en modo RIE, con oxígeno como gas reactivo. El proceso permite la obtención de motivos positivos o negativos, con respecto a la máscara, utilizando los mismos precursores fotosensibles ya que esto depende únicamente de la secuencia con que se realicen los pasos de exposición y silanización. Este proceso puede aplicarle a la fotodefinición de capas poliméricas de cualquier espesor. Aplicación en la encapsulación se sensores químicos, módulos multichip, tecnología microelectrónica, sectores electrónicos, óptica integrada.
Descripción : Referencia OEPM: P9500645.-- Fecha de solicitud: 31/03/1995.-- Titular: Consejo Superior de Investigaciones Científicas (CSIC).
URI : http://hdl.handle.net/10261/4910
Referencias: ES 2146128 B1
Aparece en las colecciones: (IMB-CNM) Patentes
Ficheros en este ítem:
Fichero Descripción Tamaño Formato  
2146128_B1.pdf171,99 kBAdobe PDFVista previa
Visualizar/Abrir
Mostrar el registro completo
 


NOTA: Los ítems de Digital.CSIC están protegidos por copyright, con todos los derechos reservados, a menos que se indique lo contrario.