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Título : Aplicación de las espectroscopías IR/ATR y Raman al estudio de la superficie de vidrios sometidos a molturación
Otros títulos: Application of the Raman and IR/ATR spectroscopies to the study of the glasses upon grinding
Autor : Pérez Villar, Sofía; Tamayo Hernando, Aitana; Mazo Fernández, María Alejandra; Rubio Alonso, Juan; Rubio Marcos, Fernando
Palabras clave : Raman spectroscopy
IR/ATR spectroscopy
Grinding
Depolymerisation
Silica
Glass
Molienda
Despolimerización
Sílice
Vidrio
Fecha de publicación : abr-2008
Editor: Sociedad Española de Cerámica y Vidrio
Citación : Boletín de la Sociedad Española de Cerámica y Vidrio 47(2): 89-94 (2008)
Resumen: [EN] The grinding process of vitreous silica and a conventional glass has been studied by means of Raman and IR/ATR spectroscopies. By using the obtained spectra, the positions and areas of the different bands have been calculated. The Raman spectra have been analysed using the Polymerisation Index (PI) that indicates the depolymerization degree achieved on the particle surface after grinding. On the other hand, the IR/ATR spectra have been used to follow the positions of the symmetric and antisymmetric Si-O-Si bands. It has been observed that both techniques give similar results. These indicate that the depolymerisation degree increases with the grinding process. This depolymerisation is due to the broke of Si-O-Si bonds.
[ES] El proceso de molienda de sílice vítrea y un vidrio convencional se ha estudiado mediante espectroscopias IR/ATR y Raman. A partir de los espectros obtenidos para diferentes tamaños de partícula se calcularon tanto las posiciones como las áreas de las bandas que aparecían en cada espectro. Utilizando los espectros Raman se ha hecho uso del denominado Índice de Polimerización (IP) el cual es indicativo del grado de despolimerización producido en la superficie de las partículas tras el proceso de molienda. Por otro lado, mediante los espectros IR/ATR y analizando las posiciones de las bandas de tensión simétrica y asimétrica de los enlaces Si-O-Si se ha podido seguir el citado proceso de molturación. Se ha observado, mediante ambas técnicas, como la superficie de las partículas se despolimeriza al disminuir el tamaño de partícula. Esta despolimerización es debida a la rotura de los enlaces Si-O-Si.
Versión del editor: http://boletines.secv.es/es/index.php?id=29&vol=47
URI : http://hdl.handle.net/10261/3748
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