English   español  
Por favor, use este identificador para citar o enlazar a este item: http://hdl.handle.net/10261/3456
COMPARTIR / IMPACTO:
Estadísticas
logo share SHARE   Add this article to your Mendeley library MendeleyBASE
Visualizar otros formatos: MARC | Dublin Core | RDF | ORE | MODS | METS | DIDL
Exportar a otros formatos:
Título

Large area fabrication method based on the local oxidation of silicon and/or differents materials on Micro- and Nano-Scale

AutorGarcía García, Ricardo
Fecha de publicación6-may-2005
CitaciónInternational Publication Number: WO 2005/040037 A1
ResumenProcess for local oxidation of a surface to be oxidized on micro and nano scale, including: i) the application of a stamp, made of or covered with a conductive material, with motives in relief of sub-micrometer or nanometer size, on or over said surface to be oxidized, in an atmosphere of gas having a controlled content of electrolyte vapours and ii) the application of an electric voltage between the stamp, connected to the negative pole, and the surface to be oxidized, connected to the positive pole.
DescripciónFiling Date: 2004-10-19. --Priority Data: IT BO2003A000614 (2003-10-20)
URIhttp://hdl.handle.net/10261/3456
Aparece en las colecciones: (IMN-CNM) Patentes
Ficheros en este ítem:
Fichero Descripción Tamaño Formato  
WO_2005_040037_A1[1].pdf1,43 MBAdobe PDFVista previa
Visualizar/Abrir
Mostrar el registro completo
 


NOTA: Los ítems de Digital.CSIC están protegidos por copyright, con todos los derechos reservados, a menos que se indique lo contrario.