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dc.contributor.authorRica Quesada, Roberto de la-
dc.contributor.authorFernández Sánchez, César-
dc.contributor.authorBaldi Coll, Antonio-
dc.contributor.authorDomínguez, Carlos-
dc.contributor.authorJiménez-Jorquera, Cecilia-
dc.date.accessioned2010-11-19T11:09:11Z-
dc.date.available2010-11-19T11:09:11Z-
dc.date.issued2010-05-28-
dc.identifier.citationES2324142 B1es_ES
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10261/29248-
dc.descriptionFecha de solicitud:30.07.2009.- Titular: Consejo Superior de Investigaciones Científicas (CSIC)es_ES
dc.description.abstractMétodo para definir y fabricar motivos superficiales nanométricos químico reactivos mediante litografía blanda en fase gaseosa, motivos y dispositivos así obtenidos y sus aplicaciones. El método propuesto en esta patente de invención permite definir y fabricar sobre obleas de silicio monocristalino u otro material semiconductor o superficie sólida, un motivo químico reactivo previamente proyectado o una serie de ellos, preferentemente una molécula de silano como el MPTMS y APTMS con un grupo tiol y amino funcional expuesto, respectivamente. Estos soportes funcionalizados a nivel nanométrico pueden ser utilizados para la fabricación de dispositivos microelectrónicos o biotecnológicos como, por ejemplo, un microarray o microchip de DNA o PNA.es_ES
dc.language.isospaes_ES
dc.rightsopenAccesses_ES
dc.titleMétodo para definir y fabricar motivos superficiales nanométricos químico reactivos mediante litografía blanda en fase gaseosa, motivos y dispositivos así obtenidos y sus aplicacioneses_ES
dc.typepatentees_ES
dc.description.peerreviewedPeer reviewedes_ES
dc.description.assigneeConsejo Superior de Investigaciones Científicas (España)-
dc.date.priority2008-01-29-
dc.identifier.citationapplication200800221-
dc.relation.patentfamilyES2324142 A1 (2009-07-30)-
dc.description.kindB1 Patente sin examen previo-
Appears in Collections:(IMB-CNM) Patentes
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