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Title

Método para definir y fabricar motivos superficiales nanométricos químico reactivos mediante litografía blanda en fase gaseosa, motivos y dispositivos así obtenidos y sus aplicaciones

AuthorsRica Quesada, Roberto de la; Fernández Sánchez, César; Baldi Coll, Antonio; Domínguez, Carlos; Jiménez-Jorquera, Cecilia
Issue Date28-May-2010
CitationES2324142 B1
AbstractMétodo para definir y fabricar motivos superficiales nanométricos químico reactivos mediante litografía blanda en fase gaseosa, motivos y dispositivos así obtenidos y sus aplicaciones. El método propuesto en esta patente de invención permite definir y fabricar sobre obleas de silicio monocristalino u otro material semiconductor o superficie sólida, un motivo químico reactivo previamente proyectado o una serie de ellos, preferentemente una molécula de silano como el MPTMS y APTMS con un grupo tiol y amino funcional expuesto, respectivamente. Estos soportes funcionalizados a nivel nanométrico pueden ser utilizados para la fabricación de dispositivos microelectrónicos o biotecnológicos como, por ejemplo, un microarray o microchip de DNA o PNA.
DescriptionFecha de solicitud:30.07.2009.- Titular: Consejo Superior de Investigaciones Científicas (CSIC)
URIhttp://hdl.handle.net/10261/29248
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