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Title

Copolímeros silliados con grupos silsesquioxano, su preparación y utilización como matrices láser de alta fotoestabilidad

AuthorsCostela González, Ángel; García Ballesteros, Olga; Garcia-Moreno, I. CSIC ORCID; Martín Torres, Virginia; Sastre Muñoz, Roberto CSIC
KeywordsPatente
Copolímeros silliados
Issue Date31-May-2010
CitationES2324806 B1
AbstractCopolímeros sililados con grupos silsesquioxano, su preparación y utilización como matrices láser de alta fotoestabilidad. La incorporación de los grupos silsesquioxano al copolímero se lleva a cabo a partir de monómeros con un número variable de dobles enlaces polimerizables por molécula de silsesquioxano, de uno hasta doce. Los copolímeros obtenidos, lineales y entrecruzados, presentan unas excelentes propiedades ópticas y altas fotoestabilidades, propiedades que les hacen especialmente aplicables como matrices sólidas para la fabricación de emisores de luz láser cuando a las mismas se les incorporan durante el proceso de su polimerización un colorante láser soluble en el medio de reacción y en el copolímero final obtenido. Los emisores láser así obtenidos presentan unas eficiencias superiores a las obtenidas con los colorantes comerciales, tanto en disolución líquida, como en otras matrices sólidas, siendo de destacar la alta fotoestabilidad que presentan estas matrices sililadas, incluso bajo condiciones extremas de trabajo.
URIhttp://hdl.handle.net/10261/28787
Appears in Collections:(ICTP) Patentes
(IQFR) Patentes

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