Method for providing a structural and/or a compositional modification in a molecular semiconductor target film

Abstract

[EN] The invention relates to a method for providing a structural and/or a compositional modification in a molecular semiconductor target film by means of a thermal, a solvent vapour or a light stimulus that locally activates diffusion of functional molecules of a solution-deposited donor layer into the molecular semiconductor target film through a semipermeable transitory interlayer. Therefore, the present invention could be included in the field of manufacturing of electronic, optoelectronic and photonic devices and structures based on molecular semiconductor materials.

[FR] L'invention concerne un procédé de réalisation d'une modification structurale et/ou compositionnelle dans un film cible semiconducteur moléculaire au moyen d'un stimulus thermique, de vapeur de solvant ou lumineux qui active localement la diffusion de molécules fonctionnelles d'une couche donneuse déposée en solution dans le film cible semi-conducteur moléculaire à travers une couche intermédiaire transitoire semi-perméable. Par conséquent, la présente invention pourrait relever du domaine de la fabrication de dispositifs électroniques, optoélectroniques et photoniques et de structures à base de matériaux semi-conducteurs moléculaires.