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Título

High resolution electron microscopy of GaAs capped GaSb nanostructures

AutorMolina, Sergio I.; Beltrán, A. M.; Ben, Teresa; Galindo, P. L.; Guerrero, Elisa; Taboada, Alfonso G.; Ripalda, José María ; Chisholm, M. F.
Palabras claveGallium arsenide
Gallium compounds
III-V semiconductors
Nanostructured materials
Nanotechnology
Scanning-transmission electron microscopy
Semiconductor epitaxial layers
Semiconductor growth
Fecha de publicación29-ene-2009
EditorAmerican Institute of Physics
CitaciónApplied Physics Letters 94, 043114 (2009)
ResumenWe show in this work that GaAs capping of 2 ML of GaSb grown by molecular beam epitaxy results in the formation of very small (with heights of about 1 nm) GaAsxSb1−x nanostructures surrounded by a GaAs rich layer. This conclusion is obtained by analyzing the morphology of the GaAsxSb1−x nanostructures by high resolution scanning transmission electron microscopy in Z-contrast mode. This result shows that a significant fraction of the Sb atoms must segregate along the growth direction during the GaAs capping process.
Versión del editorhttp://link.aip.org
http://dx.doi.org/10.1063/1.3077009
URIhttp://hdl.handle.net/10261/23507
DOI10.1063/1.3077009
ISSN0003-6951
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