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Título

Si K-edge XANES study of SiOxCyHz amorphous polymeric materials

AutorChaboy, Jesús; Barranco, Ángel ; Yanguas-Gil, Alejandro; Yubero, Francisco ; González-Elipe, Agustín R.
Palabras claveSilicon compounds
XANES
Polymers
Plasma CVD coatings
Amorphous state
Fecha de publicaciónfeb-2007
EditorAmerican Physical Society
CitaciónPhysical Review - Section B - Condensed Matter 75(7):075205.1-075205.6 (2007)
ResumenThis work reports on x-ray absorption spectroscopy study at the Si K edge of several amorphous SiOxCyHz polymers prepared by plasma-enhanced chemical-vapor deposition with different C/O ratios. SiO2 and SiC have been used as reference materials. The comparison of the experimental Si K-edge x-ray absorption near-edge structure spectra with theoretical computations based on multiple scattering theory has allowed us to monitor the modification of the local coordination around Si as a function of the overall C/O ratio in this kind of materials.
Descripción6 pages, 4 figures, 1 table.-- PACS number(s): 61.10.Ht, 81.05. t, 81.15.Gh, 81.07.Pr
Versión del editorhttp://dx.doi.org/10.1103/PhysRevB.75.075205
URIhttp://hdl.handle.net/10261/19412
DOI10.1103/PhysRevB.75.075205
ISSN1098-0121
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