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Título

Enhanced compositional sensitivity in atomic force microscopy by the excitation of the first two flexural modes

AutorMartínez, N. F.; Patil, Shivprasad; Lozano, José R.; García García, Ricardo
Palabras claveAtomic force microscopy
Silicon
Elemental semiconductors
Vibrational modes
Surface topography
Fecha de publicación11-oct-2006
EditorAmerican Institute of Physics
CitaciónApplied Physic Letters 89, 153115 (2006)
ResumenThe authors demonstrate that the compositional sensitivity of an atomic force microscope is enhanced by the simultaneous excitation of its first two flexural eigenmodes. The coupling of those modes by the nonlinear probe-surface interactions enables to map compositional changes in several conjugated molecular materials with a phase shift sensitivity that is about one order of magnitude higher than the one achieved in amplitude modulation atomic force microscopy.
Versión del editorhttp://link.aip.org
http://dx.doi.org/10.1063/1.2360894
URIhttp://hdl.handle.net/10261/17931
DOI10.1063/1.2360894
ISSN0003-6951
Aparece en las colecciones: (IMN-CNM) Artículos
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