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Título

In-situ high-temperature X-ray diffraction of thin films: chemical expansion and kinetics

AutorSantiso, José ; Moreno, Roberto
Palabras claveKinetics
X-ray diffraction
Structure
Oxygen non-stoichiometry
Chemical strain
Fecha de publicación2017
EditorSpringer Nature
CitaciónElectro-Chemo-Mechanics of Solids: 35-60 (2017)
SerieElectronic Materials: Science & Technology
ResumenThis chapter reviews the use of in-situ X-ray diffraction analyses for exploring the chemical expansion produced by oxygen stoichiometry changes in thin oxide films during oxidation and reduction, as well as the kinetics of oxygen exchange at the surface of the films. This technique has demonstated to serve as a non-invasive and very selective complementary tool for fundamental studies on mixed ionic-electronic conducting materials.
URIhttp://hdl.handle.net/10261/161380
Identificadoresdoi: 10.1007/978-3-319-51407-9_3
isbn: 978-3-319-51405-5
Aparece en las colecciones: (CIN2) Libros y partes de libros
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