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Título

Posibilidades del depósito mediante ablación con láser de óxidos electroópticos y ferroeléctricos

Otros títulosDeposition of electro-optics and ferroelectric oxides by pulsed laser ablation
AutorZaldo, Carlos
Palabras claveDALE
Depósito por ablación con láser de excímero
Láminas delgadas
Integración de óxidos cerámicos
PLD
Pulsed laser deposition
Fecha de publicaciónjun-1998
EditorSociedad Española de Cerámica y Vidrio
CitaciónBoletín de la Sociedad Española de Cerámica y Vidrio 37(2-3): 103-108 (1998)
Resumen[ES] La técnica de depósito mediante ablación con láser es particularmente adecuada para la formación de láminas delgadas de óxidos con varios cationes, por ello se ha aplicado a la preparación de óxidos superconductores, ferroeléctricos y electroópticos. En este trabajo se señalan las ventajas de la técnica y simultáneamente se enfatizan algunos mecanismos secundarios que conducen a diferencias en la composición entre el blanco y la lámina. Específicamente se comentan las modificaciones del blanco, los procesos de dispersión en la fase vapor, la interdifusión entre la lámina y el substrato y la evaporación de especies de la lámina. Estos fenómenos se ilustran mediente el depósito de óxidos de niobio y titanatos de plomo. La compresión de los mecanismos relevantes para cada material permite optimizar las condiciones depósito hasta obtener láminas con la composición y cristalinidad para algunas aplicaciones microeléctricas y ópticas.
[EN] Pulsed laser deposition technique is very well suited for thin film preparation of multicomponent oxides. It has been applied to the deposition of superconductor, ferroelectric and electrooptics oxides. The main advantages of the technique are briefly summarised in this review, moreover some physical mechanisms leading to a film composition departure from the target one are analysed. Particular attention is paid on the laser-induced modification of the target, scattering in the plume, film diffusion into the substrate and reevaporation from the film. These phenomena are illustrated with niobate and lead titanate oxides. The proper understanding of these phenomena allows the optimisation of the deposition parameters to achieve specific crystalline films suited for some microelectronics and optical applications.
URIhttp://hdl.handle.net/10261/15847
ISSN0366-3175
Aparece en las colecciones: (ICMM) Artículos
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