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Título

Preparación de recubrimientos cerámicos mediante técnicas de CVD

Otros títulosPreparation of ceramic coatings by CVD techniques
AutorOjeda, F.; Martí, F. J.; Albella, J. M.
Palabras claveDeposición química en fase vapor
Recubrimientos cerámicos
Oxinitruro de silicio
Infiltración química en fase vapor
Deposición electroquímica en fase vapor
Chemical vapour deposition
Ceramic coatings
Silicon oxynitride
Chemical vapour infiltration
Electrochemical vapour deposition
Fecha de publicacióndic-1998
EditorSociedad Española de Cerámica y Vidrio
CitaciónBoletín de la Sociedad Española de Cerámica y Vidrio 37(6): 447-453 (1998)
Resumen[ES] Se describen los fundamentos de la técnica de CVD y los principales parámetros que determinan las características de las capas depositadas. Se discuten así mismo los diferentes métodos de activación de los gases precursores, necesarios para que la reacción de deposición ocurra con velocidades apreciables y se dan algunos ejemplos de aplicación de las técnicas de CVD en la preparación de recubrimientos cerámicos.
[EN] The fundamentals of the Chemical Vapour Deposition (CVD) techniques and the key parameters determining the characteristics of the deposited layers are described. In addition, we discuss the different activation methods of the precursor gases which are necessary to achieve high reaction rates, and give some practical examples of CVD techniques applied to the preparation of ceramic coatings.
Versión del editorhttp://boletines.secv.es/es/index.php?id=66&vol=37
URIhttp://hdl.handle.net/10261/15745
ISSN0366-3175
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