English   español  
Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/10261/132774
Share/Impact:
Statistics
logo share SHARE   Add this article to your Mendeley library MendeleyBASE
Visualizar otros formatos: MARC | Dublin Core | RDF | ORE | MODS | METS | DIDL
Exportar a otros formatos:

Title

Análisis espectroscópico de las películas delgadas de óxido de cobre y del plasma producido por deposición de láser pulsado

Other TitlesSpectroscopic analysis of copper oxide thin films and plasma produced by pulsed laser deposition
AuthorsVera Londono, Liliana Patricia ; Pérez Taborda, Jaime Andrés ; Riascos Landazuri, Henry
KeywordsOptical emission spectroscopy
Thin films
Laser ablation
Espectroscopía de emisión óptica
Ablación láser
Películas delgadas
Issue Date2013
PublisherSociedad Colombiana de Física
CitationRevista Colombiana de Física 45(2): 146-150 (2013)
Abstract[EN] We use spectroscopic analysis to study plasma and copper thin films obtained by the Pulsed Laser Deposition tech-nique.The Optical Emission Spectroscopy (OES) was implemented to analyse of emission spectra of the copper plasma produced by the laser Nd:YAG of 1064 nm, which makes the ablation on the copper target. The thin film is growing over an amorphous substrate (glass) at room temperature, and the pressure is changed from 1.2 to 26.6 Pa. We obtained lines of neutral copper Cu I and copper ion, with a meaning difference in intensities, what is related with a greater probability of emission in the green and with the color observed in the plasma during the ablation. The spectroscopic analysis of the thin films is made with Raman; we observed peaks corresponding to the copper oxide. By AMF we could determine the grain size and roughness for the thin film at 20 Pa and at room temperature. The SEM analysis for different regions shows that the thin films are soft and smooth.
[ES] Mediante análisis espectroscópico se estudia el plasma y las películas delgadas de cobre obtenidas por la técnica de Deposición de Láser Pulsado (PLD). Se utiliza la espectroscopía de emisión óptica, para analizar los espectros de emisión del plasma de cobre producidos con un láser Nd:YAG de 1064 nmque ablaciona el blanco de cobre. La película delgada crece sobre un sustrato amorfo (vidrio) a una temperatura ambiente y variando la presión del argón desde 1.2 Pa hasta 26.6 Pa. Se obtienen líneas de cobre neutro y de ion de cobre con una significativa diferencia en sus intensidades, lo que se relaciona con una mayor probabilidad de emisión en el verde y con el color del plasma observado durante la ablación. Se realiza análisis espectroscópico de las películas delgadas con Raman y se observan picos correspondientes óxido de cobre. Mediante AFM se determina el tamaño de grano (42.3 nm) y la rugosidad (de 1.2 nm) de las películas crecidas a 20 Pa y temperatura ambiente. El análisis SEM en diferentes regiones de la película delgada muestra que son suaves y lisas.
URIhttp://hdl.handle.net/10261/132774
Identifiersissn: 0120-2650
Appears in Collections:(IMN-CNM) Artículos
Files in This Item:
File Description SizeFormat 
cobre_plasma_Vera.pdf629,96 kBAdobe PDFThumbnail
View/Open
Show full item record
Review this work
 


WARNING: Items in Digital.CSIC are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.