English   español  
Por favor, use este identificador para citar o enlazar a este item: http://hdl.handle.net/10261/132774
COMPARTIR / IMPACTO:
Estadísticas
logo share SHARE   Add this article to your Mendeley library MendeleyBASE
Visualizar otros formatos: MARC | Dublin Core | RDF | ORE | MODS | METS | DIDL
Exportar a otros formatos:
Título

Análisis espectroscópico de las películas delgadas de óxido de cobre y del plasma producido por deposición de láser pulsado

Otros títulosSpectroscopic analysis of copper oxide thin films and plasma produced by pulsed laser deposition
AutorVera Londono, Liliana Patricia; Pérez Taborda, Jaime Andrés; Riascos Landazuri, Henry
Palabras claveOptical emission spectroscopy
Thin films
Laser ablation
Espectroscopía de emisión óptica
Ablación láser
Películas delgadas
Fecha de publicación2013
EditorSociedad Colombiana de Física
CitaciónRevista Colombiana de Física 45(2): 146-150 (2013)
Resumen[EN] We use spectroscopic analysis to study plasma and copper thin films obtained by the Pulsed Laser Deposition tech-nique.The Optical Emission Spectroscopy (OES) was implemented to analyse of emission spectra of the copper plasma produced by the laser Nd:YAG of 1064 nm, which makes the ablation on the copper target. The thin film is growing over an amorphous substrate (glass) at room temperature, and the pressure is changed from 1.2 to 26.6 Pa. We obtained lines of neutral copper Cu I and copper ion, with a meaning difference in intensities, what is related with a greater probability of emission in the green and with the color observed in the plasma during the ablation. The spectroscopic analysis of the thin films is made with Raman; we observed peaks corresponding to the copper oxide. By AMF we could determine the grain size and roughness for the thin film at 20 Pa and at room temperature. The SEM analysis for different regions shows that the thin films are soft and smooth.
[ES] Mediante análisis espectroscópico se estudia el plasma y las películas delgadas de cobre obtenidas por la técnica de Deposición de Láser Pulsado (PLD). Se utiliza la espectroscopía de emisión óptica, para analizar los espectros de emisión del plasma de cobre producidos con un láser Nd:YAG de 1064 nmque ablaciona el blanco de cobre. La película delgada crece sobre un sustrato amorfo (vidrio) a una temperatura ambiente y variando la presión del argón desde 1.2 Pa hasta 26.6 Pa. Se obtienen líneas de cobre neutro y de ion de cobre con una significativa diferencia en sus intensidades, lo que se relaciona con una mayor probabilidad de emisión en el verde y con el color del plasma observado durante la ablación. Se realiza análisis espectroscópico de las películas delgadas con Raman y se observan picos correspondientes óxido de cobre. Mediante AFM se determina el tamaño de grano (42.3 nm) y la rugosidad (de 1.2 nm) de las películas crecidas a 20 Pa y temperatura ambiente. El análisis SEM en diferentes regiones de la película delgada muestra que son suaves y lisas.
URIhttp://hdl.handle.net/10261/132774
Identificadoresissn: 0120-2650
Aparece en las colecciones: (IMN-CNM) Artículos
Ficheros en este ítem:
Fichero Descripción Tamaño Formato  
cobre_plasma_Vera.pdf629,96 kBAdobe PDFVista previa
Visualizar/Abrir
Mostrar el registro completo
 


NOTA: Los ítems de Digital.CSIC están protegidos por copyright, con todos los derechos reservados, a menos que se indique lo contrario.