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Título

Transmission electron microscopy study on silicon nitride/stainless steel bonded interfaces

AutorPoza, P.; Miranzo López, Pilar; Osendi, María Isabel
Palabras claveSilicon nitride
Stainless steel
Interface
Transmission electron microscopy (TEM)
Fecha de publicación22-ago-2008
EditorElsevier
CitaciónThin Solid Films 517(2): 779-781 (2008)
ResumenThe reaction zone of a diffusion bonded Si3N4/stainlees steel (ss) interface formed at 1100°C was analyzed by transmission electron microscopy and X-ray diffraction (XRD). Besides the formation of various iron silicides, iron nitride and chromium nitride phases detected by XRD, Cr3Ni5Si2 crystals were identified at the interface by TEM.
Descripción3 pages, 3 figures.-- Printed version published Nov 28, 2008.
Versión del editorhttp://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2008.08.113
URIhttp://hdl.handle.net/10261/13182
DOI10.1016/j.tsf.2008.08.113
ISSN0040-6090
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