Method for depositing thick layers of boron

Abstract

[EN] The invention relates to a method for depositing a layer of boron on a substrate by means of physical evaporation with an electron beam, characterised in that it comprises: a) producing a clean substrate that comprises a first adhesive layer, b) protecting the substrate, c) reaching a minimum vacuum of 5x10-6 mbar, d) heating the substrate to a minimum temperature of 115°C, e) depositing 10B by means of EBPVD without there being any boron fragments smaller than 0.25 mm and maintaining the evaporation cone focussed, f) depositing another adhesive layer on the 10B layer, and g) cooling the substrate; where steps e) and f) are performed at least once to obtain a layer of boron with a thickness equal to or higher than 1 μπι. The invention also relates to the product obtained by said method and to the use thereof as a neutron detector

[ES] Procedimiento de depósito de una capa de boro sobre un substrato mediante evaporación física con haz de electrones, caracterizado porque comprende: a) obtener un substrato limpiado que comprende una primera capa de adhesión, b) proteger el substrato, c) alcanzar un vacío mínimo de 5x10-6 mbar, d) calentar el substrato a una temperatura mínima de 115 °C, e) depositar 10B mediante EBPVD sin que haya fragmentos de boro de tamaño inferior a 0,25 mm y manteniendo el cono de evaporación enfocado, f) depositar otra capa de adhesión sobre la capa de 10B, y g) enfriar el substrato; donde las etapas e) y f) tienen lugar al menos una vez para obtener una capa de boro con un espesor igual o superior a 1 μπι. Así como el producto obtenido por dicho procedimiento y su uso como detector de neutrones