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Rafí, J. M.

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Perfil

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Firma en Digital.CSIC (*)
Rafí, J. M.
 
Otras firmas
Rafí, Joan Marc
 
Centro o Instituto
CSIC - Centro Nacional de Microelectrónica (CNM)
 
Departamento
Micro y Nanosistemas
 
Categoría Profesional
Científico Titular del CSIC
 
Especialización
Electrical characterization Electrical Reliability Radiation effects Advanced CMOS devices Semiconductor radiation detectors
 
Email
jm.rafi@csic.es
 
ORCID
 
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Publications

Refined By:
Palabras Clave:  Al O 2 3 | Electron irradiation effects | HfO 2 | High-k dielectrics | Nanolaminate

Resultados 1-1 de 1.

DerechosPreviewFecha Public.TítuloAutor(es)Tipo
1openAccessManuscript_#SSE-D-11-00531_revised_version_with_all_changes_accepted_vfinal.pdf.jpg20132 MeV electron irradiation effects on the electrical characteristics of metal-oxide-silicon capacitors with atomic layer deposited Al<inf>2</inf>O <inf>3</inf>, HfO<inf>2</inf> and nanolaminated dielectricsRafí, J. M. CSIC ORCID ; Campabadal, Francesca CSIC ORCID ; Ohyama, H.; Takakura, K.; Tsunoda, I.; Zabala, Miguel; Beldarrain, O.; González, M. B.; García, H.; Castán, H.; Gómez, A.; Dueñas, S.artículo