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Navegación por Autor Ferrer, F. J.

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openAccessNanotechnology_24_2013_AFernández.pdf.jpg14-jun-2013A new bottom-up methodology to produce silicon layers with a closed porosity nanostructure and reduced refractive indexGodinho, V. ; Caballero-Hernández, J. ; Jamon, D.; Rojas, T. Cristina; Schierholz, R. ; García López, J. ; Ferrer, F. J. ; Fernández-Camacho, A.  Artículo
closedAccessaccesoRestringido.pdf.jpg13-mar-2008Accelerator-based research activities at "Centro Nacional de Aceleradores", Seville (Spain)Respaldiza, M. A. ; Ager, F. J. ; Carmona, Asunción; Ferrer, F. J. ; García-León, Manuel ; García López, J. ; García-Orellana, Isabel; Gómez-Tubío, B.; Morilla, Yolanda ; Ontalba-Salamanca, M. Á.; Ortega-Feliú, I. Artículo
openAccessPostprint of Surface Science .pdf.jpg2012Attenuation lengths of high energy photoelectrons in compact and mesoporous SiO2 filmsFerrer, F. J. ; Gil-Rostra, J. ; González-García, Lola; Rubio-Zuazo, J. ; Romero-Gómez, Pablo ; López-Santos, Carmen ; Yubero, Francisco Artículo
closedAccessaccesoRestringido.pdf.jpg2016Cathode and ion-luminescence of Eu:ZnO thin films prepared by reactive magnetron sputtering and plasma decomposition of non-volatile precursorsGil-Rostra, J. ; Ferrer, F. J. ; Martín, Inocencio R.; González-Elipe, Agustín R. ; Yubero, Francisco Artículo
openAccessmagnetron-sputtered_thin_films_Godinho.pdf.jpg14-dic-2016Characterization and validation of a-Si magnetron-sputtered thin films as solid He targets with high stability for nuclear reactionsGodinho, V. ; Ferrer, F. J. ; Fernández-Martínez, B. ; Caballero-Hernández, J. ; Gómez-Camacho, Joaquín ; Fernández-Camacho, A.  Artículo
openAccessacsomega%2E6b00270.pdf.jpg2016Characterization and Validation of a‑Si Magnetron-Sputtered Thin Films as Solid He Targets with High Stability for Nuclear ReactionsGodinho, V. ; Ferrer, F. J. ; Fernández-Martínez, B. ; Caballero-Hernández, J. ; Gómez-Camacho, Joaquín ; Fernández-Camacho, A.  Artículo
closedAccessaccesoRestringido.pdf.jpg2013Combined reactive magnetron sputtering and plasma decomposition of non-volatile precursors to grow luminescent thin filmsGil-Rostra, J. ; Yubero, Francisco ; Ferrer, F. J. ; González-Elipe, Agustín R. Artículo
closedAccessaccesoRestringido.pdf.jpg2012Critical thickness and nanoporosity of TiO 2 optical thin filmsBorrás, Ana ; Álvarez, Rafael ; Sánchez Valencia, Juan Ramón; Ferrer, F. J. ; González-Elipe, Agustín R. Artículo
closedAccessaccesoRestringido.pdf.jpg2007Deposition of TiO2 thin films by atmospheric plasma post-discharge assisted injection MOCVDJiménez, C.; Ferrer, F. J. Artículo
openAccessES2548912A1.pdf.jpg21-oct-2015Detector de partículas ionizantesGil-Rostra, J. ; González-Elipe, Agustín R. ; Espinós, J.P. ; Yubero, Francisco ; Barranco, Ángel ; Ferrer, F. J. ; Cotrino, José Solicitud de patente
openAccessWO2015140371A1.pdf.jpg24-sep-2015Detector de partículas ionizantesGil-Rostra, J. ; González-Elipe, Agustín R. ; Espinós, J.P. ; Yubero, Francisco ; Barranco, Ángel ; Ferrer, F. J. ; Cotrino, José Solicitud de patente
closedAccessaccesoRestringido.pdf.jpgjul-2009Electrical characteristics of mixed Zr-Si oxide thin films prepared by ion beam induced chemical vapor deposition at room temperatureFerrer, F. J. ; Frutos, F.; García López, J. ; Jiménez, C.; Yubero, Francisco Artículo
closedAccessaccesoRestringido.pdf.jpgdic-2011Electrochromic behavior of WxSiyOz thin films prepared by reactive magnetron sputtering at normal and glancing anglesGil-Rostra, J. ; Ferrer, F. J. ; Yubero, Francisco ; González-Elipe, Agustín R. Artículo
closedAccessaccesoRestringido.pdf.jpg2017Energy-sensitive ion- and cathode-luminescent radiation-beam monitors based on multilayer thin-film designsGil-Rostra, J. ; Ferrer, F. J. ; Espinós, J.P. ; González-Elipe, Agustín R. ; Yubero, Francisco Artículo
closedAccessaccesoRestringido.pdf.jpg2010Growth and characterization of nitrogen-doped TiO2 thin films prepared by reactive pulsed laser depositionSauthier, Guillaume ; Ferrer, F. J. ; Figueras, Albert; Gyorgy, Eniko Artículo
closedAccessaccesoRestringido.pdf.jpg2009Growth mechanism and chemical structure of amorphous hydrogenated silicon carbide (a-SiC:H) films formed by remote hydrogen microwave plasma CVD from a triethylsilane precursor: Part 1Ferrer, F. J. ; González-Elipe, Agustín R. Artículo
closedAccessaccesoRestringido.pdf.jpg2016High-rate deposition of stoichiometric compounds by reactive magnetron sputtering at oblique anglesÁlvarez, Rafael ; García-Valenzuela, A.; López-Santos, Carmen ; Ferrer, F. J. ; Rico, Víctor J. ; Escobar Galindo, R.; González-Elipe, Agustín R. ; Palmero, Alberto Artículo
openAccessHIT solar cells.pdf.jpg2013Hydrogenated amorphous silicon deposited by high pressure sputtering for HIT solar cellsGarcía-Hernández, M.  ; Ferrer, F. J. Comunicación de congreso
closedAccessaccesoRestringido.pdf.jpg2016Ion implantation process of SiC single crystals: proposal and joint possibilities at the Centro Nacional de AceleradoresGarcía López, J. ; Jiménez-Ramos, M. C. ; Ferrer, F. J. ; Ortega-Feliú, I. Comunicación de congreso
closedAccessaccesoRestringido.pdf.jpg2016Limitations of high pressure sputtering for amorphous silicon depositionGarcía-Hernansanz, R.; García-Hemme, E.; Montero, D.; Olea, J.; San Andrés, E.; Prado, A.; Ferrer, F. J. ; Mártil, I.; González-Díaz, G.Artículo