English   español  
Por favor, use este identificador para citar o enlazar a este item: http://hdl.handle.net/10261/31036
COMPARTIR / IMPACTO:
Estadísticas
logo share SHARE   Add this article to your Mendeley library MendeleyBASE
Visualizar otros formatos: MARC | Dublin Core | RDF | ORE | MODS | METS | DIDL
Exportar a otros formatos:

Título

Method for preparing thin porous layers of inorganic oxides

Otros títulosProcedimiento para la preparación de capas finas porosas de óxidos inorgánicos
AutorBarranco, Ángel ; Yubero, Francisco ; Espinós, J.P. ; González-Elipe, Agustín R. ; Cotrino, José
Fecha de publicación31-oct-2002
CitaciónWO 02/086190 A1
Resumen[EN]The invention relates to a method for preparing thin layers of inorganic oxides on substrates by means of plasma-assisted vapour phase deposition. The inventive method is different from other common methods in that organic layer deposition steps are included between the successive inorganic oxide deposition steps such that, during the inorganic layer deposition step, the previously-deposited organic part is eliminated by combustion. Said method is suitable for developing selective membranes that are used to separate and purify fluids and to produce and modify sensors for gases and humidity and electronic components. [ES]El objeto de la presente invención es un procedimiento para la preparación de capas finas de óxidos inorgánicos sobre substratos mediante la deposición desde fase vapor asistida por plasma que se diferencia de los procedimientos habituales porque se intercalan entre las sucesivas etapas de deposición del óxido inorgánico etapas de deposición de capas orgánicas, de forma que durante la etapa de deposición de la capa inorgánica se produzca la eliminación por combustión de la parte orgánica previamente depositada. El procedimiento es de interés en el desarrollo de membranas selectivas para separación y purificación de fluidos así como para la fabricación y modificación de sensores de gases y de humedad y de componentes electrónicos.
DescripciónFecha de solicitud: 18.04.2002.- Titulares: Consejo Superior de Investigaciones Científicas (CSIC).- Universidad de Sevilla.
URIhttp://hdl.handle.net/10261/31036
Aparece en las colecciones: (ICMS) Patentes
(CNA) Patentes
Ficheros en este ítem:
Fichero Descripción Tamaño Formato  
WO02086190A1.pdf1,1 MBAdobe PDFVista previa
Visualizar/Abrir
Mostrar el registro completo
 


NOTA: Los ítems de Digital.CSIC están protegidos por copyright, con todos los derechos reservados, a menos que se indique lo contrario.