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Open Access item Method for preparing thin porous layers of inorganic oxides

Other Titles:Procedimiento para la preparación de capas finas porosas de óxidos inorgánicos
Authors:Barranco, Ángel
Yubero, Francisco
Espinós, J.P.
González-Elipe, Agustín R.
Cotrino, José
Issue Date:31-Oct-2002
Citation:WO 02/086190 A1
Abstract:[EN]The invention relates to a method for preparing thin layers of inorganic oxides on substrates by means of plasma-assisted vapour phase deposition. The inventive method is different from other common methods in that organic layer deposition steps are included between the successive inorganic oxide deposition steps such that, during the inorganic layer deposition step, the previously-deposited organic part is eliminated by combustion. Said method is suitable for developing selective membranes that are used to separate and purify fluids and to produce and modify sensors for gases and humidity and electronic components. [ES]El objeto de la presente invención es un procedimiento para la preparación de capas finas de óxidos inorgánicos sobre substratos mediante la deposición desde fase vapor asistida por plasma que se diferencia de los procedimientos habituales porque se intercalan entre las sucesivas etapas de deposición del óxido inorgánico etapas de deposición de capas orgánicas, de forma que durante la etapa de deposición de la capa inorgánica se produzca la eliminación por combustión de la parte orgánica previamente depositada. El procedimiento es de interés en el desarrollo de membranas selectivas para separación y purificación de fluidos así como para la fabricación y modificación de sensores de gases y de humedad y de componentes electrónicos.
Description:Fecha de solicitud: 18.04.2002.- Titulares: Consejo Superior de Investigaciones Científicas (CSIC).- Universidad de Sevilla.
URI:http://hdl.handle.net/10261/31036
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