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Method for defining and producing reactive chemical nanomemtric surface patterns by means of gaseous-phase soft lithography, resulting patterns and devices and uses thereof

Other TitlesMétodo para definir y fabricar motivos superficiales nanométricos químico reactivos mediante litografía blanda en fase gaseosa, motivos y dispositivos así obtenidos y sus aplicaciones
AuthorsDe la Rica Quesada, Roberto; Fernández Sánchez, César CSIC ORCID ; Baldi Coll, Antonio; Domínguez Horna, Carlos; Jiménez-Jorquera, Cecilia CSIC ORCID CVN
Issue Date6-Aug-2009
CitationWO 2009095520 (A1)
AbstractThe invention relates to a method for defining and producing patterns on wafers made from monocrystalline silicon or another semiconductive material or solid surface, said patterns comprising a pre-sprayed reactive chemical pattern or a series of patterns, preferably a silane molecule such as MPTMS and APTMS with an exposed thiol and amino functional group respectively. Said nanometric functionalised media can be used to produce microelectronic and biotechnological devices such as, for example, a PNA or DNA microchip or microarray.
El la invención se refiere a un método para definir y producir patrones en las obleas hechas de los silicios monocristalinos u otro material de tipo o superficie sólida semiconductive, patrones dichos comprendiendo un patrón reactivo pre-pulverizado del producto químico o una serie de patrones, preferiblemente una molécula del silano tal como MPTMS y APTMS con un tiol y un grupo funcional expuestos del amino respectivamente. El bote funcionalizado nanometric dicho del medio sea utilizado producir dispositivos microelectrónicos y biotechnological por ejemplo, un microchip por ejemplo, de PNA o de la DNA o microarray.
DescriptionFecha de solicitud: 06-08-2009.- Titular: Consejo Superior de Investigaciones Científicas (CSIC)
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