Method for obtaining phase diffraction gratings in a substrate by laser ablation of a target

Abstract

The invention relates to a method for obtaining phase diffraction gratings in a substrate (2) by laser ablation of a target (1), in which a phase diffraction grating pattern is defined using computer means. The method comprises the following steps in which: the beam (3) of a laser (4) is focused on a target (1) in a working area for the ablation of said target (1), the beam (3) is oriented using a set of galvanometers (5) in order to produce the phase diffraction grating pattern on the target (1), and the beam (3) is homogenised using a flat field lens (6) in order to obtain a homogeneous power density in the working area. Using the aforementioned method, the phase diffraction grating can be produced in a single phase without the presence of external elements. The method is non-polluting, simple, quick and precise.

El la invención se refiere a un método para obtener las rejillas de difracción de la fase en un sustrato (2) por la ablación con laser de una diana (1), en la cual un patrón de la rejilla de difracción de la fase es definido con medio de ordenador. El método comprende las etapas de la continuación en las cuales: la haz (3) de un láser (4) es enfocada en una diana (1) en una área de trabajo para la ablación de la diana dicha (1), la haz (3) está orientada usando un conjunto de los galvanómetros (5) para producir el patrón de la rejilla de difracción de la fase en la diana (1), y la haz (3) se homogeneiza usando una lente plana del campo (6) para obtener una densidad de potencia homogénea en la área de trabajo. Usando el método mencionado, el bote de la rejilla de difracción de la fase se produzca en una fase única sin la presencia de elementos externos. El método es non-polluting, simple, rápido y preciso.