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Título

Coercive and anisotropy fields in patterned amorphous FeSi submicrometric structures

AutorVélez, María ; Morales, R.; Alameda, J. M. ; Briones Fernández-Pola, Fernando ; Martín, José Ignacio ; Vicent, J. L.
Palabras claveFeSi
Submicrometric structures”
Fecha de publicación1-may-2000
EditorAmerican Institute of Physics
CitaciónJournal of Applied Physics 87(9) : 5654–5656 (2000)
ResumenAmorphous FexSi12x films have been prepared on Si substrates in order to fabricate submicrometric magnetic structures with soft magnetic behavior. The magnetic properties compositional dependence of the unpatterned samples has been analyzed to select the Fe content (x50.7) with the lowest coercive and anisotropy fields values. Arrays of Fe0.7Si0.3 lines have been fabricated by electron beam lithography combined with a liftoff technique, with typical dimensions of 200 nm linewidth and 1 mm line spacing. These arrays present coercive fields parallel to the line direction as small as 9 Oe.
Versión del editorhttp://dx.doi.org/10.1063/1.372479
URIhttp://hdl.handle.net/10261/27425
DOI10.1063/1.372479
ISSN0021-8979
Aparece en las colecciones: (IMN-CNM) Artículos
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