Deposición de capas de grafeno mediante deposición química en fase vapor asistida por plasma

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Título:	Deposición de capas de grafeno mediante deposición química en fase vapor asistida por plasma
Otros títulos:	Deposition of graphene layers by means of plasma-enhanced chemical vapour deposition
Autor:	Muñoz, Roberto CSIC ORCID; García-Hernández, Mar CSIC ORCID ; Gómez-Aleixandre, C. CSIC
Fecha de publicación:	18-ene-2017
Citación:	ES2597477 A1
Resumen:	La invención se refiere a un procedimiento de deposición de capas de grafeno de alta calidad sobre un sustrato que se realiza mediante deposición química en fase vapor asistida por plasma, comprendiendo dichas capas de grafeno nanocristales de tamaños controlables con la temperatura y el tiempo interconectados por fase amorfa. Además, la invención se refiere a dicho material depositado sobre un sustrato y su uso como componente de ventanas o paneles táctiles, sistemas de protección, electrodos, elemento de cabezas lectoras/platos de disco duro.
URI:	http://hdl.handle.net/10261/177109
Aparece en las colecciones:	(ICMM) Patentes