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dc.contributor.authorMartín-Gago, José A.es_ES
dc.contributor.authorGómez-Lor, Bertaes_ES
dc.contributor.authorMéndez, Javieres_ES
dc.contributor.authorLópez, María Franciscaes_ES
dc.contributor.authorCaillard, Renaudes_ES
dc.contributor.authorOtero, Gonzaloes_ES
dc.contributor.authorSánchez-Sánchez, Carloses_ES
dc.contributor.authorEchavarren, Antonio M.es_ES
dc.contributor.authorRogero, Celiaes_ES
dc.date.accessioned2018-09-27T11:06:15Z-
dc.date.available2018-09-27T11:06:15Z-
dc.date.issued2009-12-28-
dc.identifier.citationES2331281 A1es_ES
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10261/170289-
dc.description.abstractLa presente invención describe un procedimiento para la fabricación de fullerenos y heterofullerenos basado en la deshidrogenación de precursores orgánicos por la acción catalítica de un material monocristalino altamente reactivo, por ejemplo Pt(111). La producción de los fullerenos se produce sobre superficies curvas (nanopartículas) o sobre láminas de dicho material catalítico, pudiéndose liberar posteriormente los fullerenos para usos futuros. Por otro lado, las láminas con los fullerenos adheridos pueden utilizarse como dispositivos de electrónica molecular, por ejemplo, como donor de electrones, en diodos, transistores moleculares, células fotovoltaicas o limitadores ópticos en los que el C60 forma la capa activa.es_ES
dc.language.isospaes_ES
dc.rightsopenAccesses_ES
dc.titleProcedimiento de obtención de fullerenos y fullerenos así obtenidoses_ES
dc.typeSolicitud de patentees_ES
dc.description.peerreviewedPeer reviewedes_ES
dc.description.assigneeConsejo Superior de Investigaciones Científicas (España), Institut Català d'Investigació Química, Instituto Nacional de Tecnología Aeroespaciales_ES
dc.date.priority2008-06-25-
dc.identifier.citationapplication200801896es_ES
dc.relation.patentfamilyES2331281 B1 (2010-10-01)es_ES
dc.relation.patentfamilyWO2009156539 A1 (2009-12-30)-
dc.description.kindA1 Solicitud de patente con informe sobre el estado de la técnicaes_ES
dc.relation.csices_ES
oprm.item.hasRevisionno ko 0 false*
Appears in Collections:(ICMM) Patentes
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