Local Oxidation Nanolithography by Atomic Force Microscopy

Abstract

Uno de los retos científicos y tecnológicos actuales consiste en el diseño, la fabricación y la operación de dispositivos formados por unos pocos átomos. Para convertir este reto en una realidad es necesario desarrollar técnicas de litografía que permitan la fabricación de dispositivos con dimensiones inferiores a 10nm. El Microscopio de Fuerzas Atómicas (AFM) basa su funcionamiento en la detección de fuerzas a escala atómica mediante la medida óptica de la deflexión de una micropalanca muy sensible, que tiene situada una punta de forma piramidal en su extremo. Aunque la principal aplicación de este microscopio consiste en la caracterización topográfica de superficies, su versatilidad y precisión le han convertido en una importante herramienta para la fabricación de nanoestructuras. En esta tesis se desarrolla y optimiza una técnica de nanofabricación basada en el confinamiento de reacciones químicas que permite la fabricación de motivos de tamaño inferior a los 10nm. Estas nanoestructuras fabricadas con el AFM se utilizarán como centros de atracción electrostática para diferentes tipos de moléculas permitiendo su deposición preferencial. Finalmente, se trabajará en la posibilidad de utilizar los motivos realizados con el microscopio de fuerzas como máscaras frente ataques químicos que permitan la fabricación de dispositivos de tamaño nanométrico.