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Título : Caracterización in situ de la morfología y los procesos de relajación durante el crecimiento mediante epitaxia por haces moleculares de heteroestructuras de semiconductores III-V
Autor : González Sagardoy, María Ujué
Director: González, Luisa, González, Yolanda
Palabras clave : Epitaxia de haces moleculares
Semiconductores
Procesos de relajación
Dispersión de luz
Hilos cuánticos
Fecha de publicación : 2004
Editor: Universidad Complutense de Madrid
CSIC - Instituto de Microelectrónica de Madrid (IMM-CNM)
Resumen: En este trabajo de tesis doctoral se ha abordado el estudio /in situ/ de dos aspectos fundamentales en el crecimiento de sistemas heteroepitaxiales con diferencia de parámetros de red: los procesos de relajación y la evolución de la morfología. Para llevar a cabo el seguimiento de la morfología hemos utilizado la técnica de dispersión de luz, mientras que la evolución de la relajación ha sido determinada mediante la monitorización óptica, a través de la deflexión de un haz láser, de la curvatura inducida en el substrato por la tensión a que se ve sometida la capa. Puesto que los mecanismos que intervienen en la relajación de los sistemas y en la evolución de la morfología dependen de que la diferencia de parámetros de red entre los constituyentes del sistema heteropitaxial sea grande (epsilon>2%) o pequeña (epsilon<2%), hemos analizado ambos tipos de sistemas. En concreto, hemos estudiado el sistema In0,2Ga0,8As/GaAs (001) (epsilon=1,4%), que se caracteriza porque la relajación se produce mediante la formación de una red ordenada de dislocaciones de desacople en la intercara y por el desarrollo en la intercara y por el desarrollo en la superficie de una morfología de surcos entrecruzados, y el sistema InAs/InP (001) (epsilon=3,2%), donde la relajación se produce de manera elástica a través de la formación de hilos cuánticos.
Descripción : 200 páginas, 55 figuras, 4 tablas.-- Tesis para optar al grado de Doctora en Ciencias Físicas presentada el 11-11-2002 por María Ujué González Sagardoy.
Versión del editor: http://eprints.ucm.es/4451/
URI : http://hdl.handle.net/10261/13116
ISBN : 978-84-669-1739-1
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