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Navegación por Autor Dago, Arancha I.

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openAccessprobe_lithography_Dago.pdf.jpgabr-2018Chemical and structural analysis of sub-20 nm graphene patterns generated by scanning probe lithographyDago, Arancha I.; Sangiao, S. CSIC ORCID; Fernández-Pacheco, Rodrigo; Teresa, José María de CSIC ORCID ; García García, Ricardo CSIC ORCIDartículo
closedAccessaccesoRestringido.pdf.jpg2018Chemical and structural analysis of sub-20 nm graphene patterns generated by scanning probe lithographyDago, Arancha I.; Sangiao, S. CSIC ORCID; Fernández-Pacheco, Rodrigo; Teresa, José María de CSIC ORCID ; García García, Ricardo CSIC ORCIDcomunicación de congreso
openAccessWSe2 nanoribbons_ACS Appl_Mat_Interf.pdf.jpg12-nov-2018Direct Patterning of p-Type-Doped Few-layer WSe2 Nanoelectronic Devices by Oxidation Scanning Probe LithographyDago, Arancha I.; Ryu, Y. K. CSIC ORCID; Palomares, F. Javier CSIC ORCID; García García, Ricardo CSIC ORCIDartículo
openAccessRyu_Sub-10 nm_App_Surf_Science_2021_postprint.pdf.jpg21-oct-2020Sub-10 nm patterning of few-layer MoS2 and MoSe2 nanolectronic devices by oxidation scanning probe lithographyRyu, Y. K. CSIC ORCID; Dago, Arancha I.; He, Y.; Espinosa, Francisco M. CSIC ORCID; López-Elvira, Elena ; Munuera, C. CSIC ORCID ; García García, Ricardo CSIC ORCIDartículo
openAccessprobe_lithography.pdf.jpgsep-2016Sub-20 nm patterning of thin layer WSe2 by scanning probe lithographyDago, Arancha I.; Ryu, Y. K. CSIC ORCID; García García, Ricardo CSIC ORCIDpóster de congreso
openAccesspatterning_thin_layer_Dago.pdf.jpg20-oct-2016Sub-20 nm patterning of thin layer WSe2 by scanning probe lithographyDago, Arancha I.; Ryu, Y. K. CSIC ORCID; García García, Ricardo CSIC ORCIDartículo